描述:獨(dú)立控制平行合成反應(yīng)儀應(yīng)用領(lǐng)域:高校 :化學(xué)學(xué)院完善好、材料學(xué)院優化服務策略、藥學(xué)院逐步改善、研究所 :化學(xué)研究所適應性、藥學(xué)研究所等科研機(jī)構(gòu)狀態,企業(yè):精細(xì)化工、制藥有力扭轉、高分子材料等機(jī)構(gòu)主要用于全合成研究調解製度、方法學(xué)研究深入;材料合成 提高鍛煉,化學(xué)藥新藥研發(fā)等
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥 |
產(chǎn)品型號 YPXFx4-1000ML
主要配置功能:
反應(yīng)溫度范圍廣 ,可實(shí)現(xiàn)從-40℃ ~250℃的溫度控制 行業內卷,可進(jìn)行高低溫合成反應(yīng)進行培訓。
可實(shí)現(xiàn)從 5ml~1000ml 的大容量范圍的合成反應(yīng)。有多個反應(yīng)位可獨(dú)立控溫(1/2/3/4/5 位) 凝聚力量,實(shí)現(xiàn)高精度控溫關鍵技術,每個反應(yīng)可以選配定時(shí)控制(選配) ,適用于更多合成反應(yīng)的控溫條件。
可配置低于 7mm直徑的攪拌棒有所提升,攪拌棒可穿桿安裝,配合四氟攪拌塞可實(shí)現(xiàn)抽真空狀態(tài)下 攪拌
設(shè)計(jì)優(yōu)點(diǎn):
采用多聯(lián)平行反應(yīng)釜設(shè)計(jì)方案 參與能力,每個反應(yīng)單元可獨(dú)立控溫法治力量、獨(dú)立控制攪拌速度
具備低溫循環(huán)下的控溫設(shè)計(jì)功能 長期間,可消除合成反應(yīng)過程中的放熱
每個反應(yīng)單元可以根據(jù)合成需求選用不同的反應(yīng)容器 ,具備氣體置換技術研究、 回流是目前主流、強(qiáng)磁力攪拌、 頂置攪拌現場、樣品添加功能
每個反應(yīng)單元具備強(qiáng)磁力攪拌和機(jī)械攪拌方式
精確溫度控制:
優(yōu)點(diǎn) 1 :反應(yīng)溫度范圍廣 便利性,可實(shí)現(xiàn)從-40℃ ~250℃的溫度控制/控溫精度±1 度。
優(yōu)點(diǎn) 2:每個反應(yīng)單元的低溫循環(huán)采用閥門控制設(shè)計(jì) 高質量,( 1 工位低溫反應(yīng) 信息化,2/3/4 工位高溫 反應(yīng) , )( 1/2 工位低溫反應(yīng) 可靠, 3/4 工位可以高溫反應(yīng) , )( 1/2/3 工位低溫反應(yīng) ,4 工位 也可以高溫反應(yīng))不久前,各反應(yīng)單元間最高可實(shí)現(xiàn) 0℃溫差(低溫-40℃時(shí)緊迫性,最高可升溫至 200℃)
優(yōu)點(diǎn) 3:每個反應(yīng)單元具備 2 種控溫模式切換,反應(yīng)釜物料控溫和加熱板控溫機構,每個控溫單 元可以和電腦 RS232 接口連接進(jìn)行遠(yuǎn)程控制 非常激烈,控制反應(yīng)釜內(nèi)溫控制 ,選配西門子程序控制 高低溫一體機(jī)實(shí)現(xiàn)高溫控制/升溫速度控制/降溫速度控制/低溫反應(yīng)控制更適合。
便于操作:
整機(jī)安全設(shè)計(jì)功能:
每個反應(yīng)單元操作界面采用液晶屏顯示+旋鈕操作設(shè)計(jì)
優(yōu)點(diǎn) 4:磁力攪拌和機(jī)械攪拌方式按鍵切換(可定時(shí))
每個反應(yīng)單元配置了 RS232 接口鏈接電腦進(jìn)行記錄
整機(jī)安全設(shè)計(jì)功能:
整機(jī)具備雙重防止漏電和電流過載保護(hù)功能
每個反應(yīng)單元溫度上限可進(jìn)行設(shè)定
每個反應(yīng)單元具備超溫保護(hù)報(bào)警功能
停止控溫后 技術交流,溫度超過 50℃時(shí) ,具備顯示警報(bào)過熱功能
每個反應(yīng)單元配置防止溫度過升功能 主要抓手,可有效防止溫度控制器失效后的溫度過升
應(yīng)用范圍:單一或并行合成
? 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì) (DoE) ? 工藝開發(fā) ? 規(guī)谋U?;?/span>
? 路由搜索 ? 結(jié)晶研究 ? 多晶型篩選
? 先導(dǎo)化合物優(yōu)化 ? 反應(yīng)優(yōu)化 ? 試劑、催化劑和溶劑篩選
應(yīng)用領(lǐng)域:
高校 :化學(xué)學(xué)院空間載體、材料學(xué)院體製、藥學(xué)院、
研究所 :化學(xué)研究所即將展開、藥學(xué)研究所等科研機(jī)構(gòu)向好態勢,
企業(yè):精細(xì)化工、制藥創新科技、高分子材料等機(jī)構(gòu)
主要用于全合成研究更默契了、方法學(xué)研究;材料合成 服務機製,化學(xué)藥新藥研發(fā)等
獨(dú)立控制平行合成反應(yīng)儀具體規(guī)格參數(shù)
攪拌方式 :強(qiáng)磁力攪拌+機(jī)械攪拌
反應(yīng)位: 1 位/2 位/3 位/4 位/5 位(現(xiàn)貨 4 位)
每反應(yīng)單元合成量: 5 ~1000ml 容積低于 1000ml 需要使用配套金屬模塊 流程,最大 1000ml 容積
優(yōu)點(diǎn) 5、反應(yīng)器:配置 1000mL 分體反應(yīng)釜(釜身和釜蓋分離設(shè)計(jì)) 培訓,可配金屬模
塊置,500ml等特點、 300ml推動並實現、 250ml、 200ml順滑地配合、 100mL更加完善、 50mL、 25mL上高質量、 10mL 高硼硅玻璃反應(yīng) 管(常壓和耐壓反應(yīng)管均可配置)
優(yōu)點(diǎn) 6精準調控、控溫波動度(三種控溫類型):
1:低溫循環(huán)控制(1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測 ,外連接低溫循環(huán)泵的狀態(tài)下控溫 建設應用,控制 金屬夾層內(nèi)溫控制狀態(tài)下): ±1℃ , 低溫模塊鏈接自來水實(shí)現(xiàn)快速給物料降溫優化程度。
2: 電加熱控溫(1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測 ,無低溫循環(huán)的狀態(tài)下控溫 應用的因素之一,包含物料控制 狀態(tài)下)±1℃
3:低溫循環(huán)程序控溫(1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測 基礎,通入高低溫一體機(jī)的狀態(tài)下控溫, 包含夾套和內(nèi)溫控制狀態(tài)下): ±1℃奮勇向前,控溫顯示精度 :0.1℃引領作用,控溫范圍: -40 ~250℃
磁力攪拌轉(zhuǎn)速范圍;100~1500rpm多功能液晶屏機(jī)械攪拌器轉(zhuǎn)速范圍: 100-1500 rpm
機(jī)械攪拌采用液晶屏 4.5 寸彩色多功能配置
機(jī)械攪拌轉(zhuǎn)速設(shè)置范圍: 100-1500rpm精度正負(fù) 0.1rpm
機(jī)械攪拌定時(shí)范圍: 1 秒-9999 時(shí)
機(jī)械攪拌只帶熱電偶可以隨意測量溫度 500 度內(nèi)
機(jī)械攪拌帶一鍵鎖功能 ,鎖屏后無法調(diào)整參數(shù)
機(jī)械攪拌器設(shè)計(jì) :可配置低于 7mm直徑的攪拌棒 經驗,攪拌棒可穿桿安裝 ,配合四氟 攪拌塞可實(shí)現(xiàn)抽真空 ,充氣體狀態(tài)下攪拌
溫度設(shè)定及表示:液晶屏顯示 全技術方案,旋鈕調(diào)溫基本情況。
攪拌設(shè)定及表示:通過旋鈕設(shè)定和液晶屏顯示狀態(tài)獨(dú)立控制平行合成反應(yīng)儀