產(chǎn)品型號(hào) YPXFx4-1000ML

主要配置功能：

反應(yīng)溫度范圍廣 ，可實(shí)現(xiàn)從-40℃ ~250℃的溫度控制 狀況，可進(jìn)行高低溫合成反應(yīng)範圍和領域。

可實(shí)現(xiàn)從 5ml~1000ml 的大容量范圍的合成反應(yīng)。有多個(gè)反應(yīng)位可獨(dú)立控溫（1/2/3/4/5 位） 業務，實(shí)現(xiàn)高精度控溫，每個(gè)反應(yīng)可以選配定時(shí)控制（選配） ，適用于更多合成反應(yīng)的控溫條件完善好。

可配置低于 7mm直徑的攪拌棒促進進步，攪拌棒可穿桿安裝，配合四氟攪拌塞可實(shí)現(xiàn)抽真空狀態(tài)下 攪拌

設(shè)計(jì)優(yōu)點(diǎn)：
采用多聯(lián)平行反應(yīng)釜設(shè)計(jì)方案 全過程，每個(gè)反應(yīng)單元可獨(dú)立控溫新趨勢、獨(dú)立控制攪拌速度

具備低溫循環(huán)下的控溫設(shè)計(jì)功能 ，可消除合成反應(yīng)過(guò)程中的放熱

每個(gè)反應(yīng)單元可以根據(jù)合成需求選用不同的反應(yīng)容器 行動力，具備氣體置換結構、 回流、強(qiáng)磁力攪拌落到實處、 頂置攪拌效果、樣品添加功能

每個(gè)反應(yīng)單元具備強(qiáng)磁力攪拌和機(jī)械攪拌方式

精確溫度控制：
優(yōu)點(diǎn) 1 ：反應(yīng)溫度范圍廣 ，可實(shí)現(xiàn)從-40℃ ~250℃的溫度控制/控溫精度±1 度營造一處。

優(yōu)點(diǎn) 2：每個(gè)反應(yīng)單元的低溫循環(huán)采用閥門控制設(shè)計(jì) 服務水平，（ 1 工位低溫反應(yīng) ，2/3/4 工位高溫 反應(yīng) 保供， ）（ 1/2 工位低溫反應(yīng) 能力建設， 3/4 工位可以高溫反應(yīng) ， ）（ 1/2/3 工位低溫反應(yīng) 技術創新，4 工位 也可以高溫反應(yīng)）醒悟，各反應(yīng)單元間最高可實(shí)現(xiàn) 0℃溫差（低溫-40℃時(shí)，最高可升溫至 200℃)

優(yōu)點(diǎn) 3：每個(gè)反應(yīng)單元具備 2 種控溫模式切換生產體系，反應(yīng)釜物料控溫和加熱板控溫新模式，每個(gè)控溫單 元可以和電腦 RS232 接口連接進(jìn)行遠(yuǎn)程控制 ，控制反應(yīng)釜內(nèi)溫控制 高質量，選配西門子程序控制 高低溫一體機(jī)實(shí)現(xiàn)高溫控制/升溫速度控制/降溫速度控制/低溫反應(yīng)控制應用情況。

便于操作：

整機(jī)安全設(shè)計(jì)功能：

每個(gè)反應(yīng)單元操作界面采用液晶屏顯示+旋鈕操作設(shè)計(jì)

優(yōu)點(diǎn) 4：磁力攪拌和機(jī)械攪拌方式按鍵切換（可定時(shí)）

每個(gè)反應(yīng)單元配置了 RS232 接口鏈接電腦進(jìn)行記錄

整機(jī)安全設(shè)計(jì)功能：

整機(jī)具備雙重防止漏電和電流過(guò)載保護(hù)功能

每個(gè)反應(yīng)單元溫度上限可進(jìn)行設(shè)定

每個(gè)反應(yīng)單元具備超溫保護(hù)報(bào)警功能

停止控溫后 ，溫度超過(guò) 50℃時(shí) ，具備顯示警報(bào)過(guò)熱功能

每個(gè)反應(yīng)單元配置防止溫度過(guò)升功能 也逐步提升，可有效防止溫度控制器失效后的溫度過(guò)升

應(yīng)用范圍：?jiǎn)我换虿⑿泻铣?/span>

? 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)  (DoE)               ?  工藝開(kāi)發(fā)             ? 規(guī)谋Ｗo好；?/span>

? 路由搜索                      ? 結(jié)晶研究              ?  多晶型篩選

? 先導(dǎo)化合物優(yōu)化                 ? 反應(yīng)優(yōu)化              ? 試劑、催化劑和溶劑篩選

應(yīng)用領(lǐng)域：

高校 ：化學(xué)學(xué)院組織了、材料學(xué)院充足、藥學(xué)院、

研究所 ：化學(xué)研究所解決問題、藥學(xué)研究所等科研機(jī)構(gòu)，

企業(yè)：精細(xì)化工不要畏懼、制藥導向作用、高分子材料等機(jī)構(gòu)

主要用于全合成研究、方法學(xué)研究作用；材料合成 重要意義，化學(xué)藥新藥研發(fā)等

獨(dú)立控制平行合成反應(yīng)儀具體規(guī)格參數(shù)

攪拌方式 ：強(qiáng)磁力攪拌+機(jī)械攪拌

反應(yīng)位： 1 位/2 位/3 位/4 位/5 位（現(xiàn)貨 4 位）

每反應(yīng)單元合成量： 5 ~1000ml 容積低于 1000ml 需要使用配套金屬模塊 ，最大 1000ml 容積

優(yōu)點(diǎn) 5意見征詢、反應(yīng)器：配置 1000mL 分體反應(yīng)釜（釜身和釜蓋分離設(shè)計(jì)） 組成部分，可配金屬模

塊置,500ml、 300ml集聚、 250ml高效化、 200ml、 100mL新的動力、 50mL完成的事情、 25mL、 10mL 高硼硅玻璃反應(yīng) 管（常壓和耐壓反應(yīng)管均可配置）

優(yōu)點(diǎn) 6為產業發展、控溫波動(dòng)度（三種控溫類型）：

1：低溫循環(huán)控制（1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測(cè) 研究成果，外連接低溫循環(huán)泵的狀態(tài)下控溫 ，控制 金屬夾層內(nèi)溫控制狀態(tài)下）： ±1℃ ,  低溫模塊鏈接自來(lái)水實(shí)現(xiàn)快速給物料降溫穩定。

2： 電加熱控溫（1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測(cè) 機製性梗阻，無(wú)低溫循環(huán)的狀態(tài)下控溫 ，包含物料控制 狀態(tài)下）±1℃

3：低溫循環(huán)程序控溫（1000ml 反應(yīng)釜實(shí)測(cè) 廣泛關註，通入高低溫一體機(jī)的狀態(tài)下控溫改造層面， 包含夾套和內(nèi)溫控制狀態(tài)下）： ±1℃，控溫顯示精度 ：0.1℃各項要求，控溫范圍： -40 ~250℃

磁力攪拌轉(zhuǎn)速范圍;100~1500rpm多功能液晶屏機(jī)械攪拌器轉(zhuǎn)速范圍： 100-1500 rpm

機(jī)械攪拌采用液晶屏 4.5 寸彩色多功能配置

機(jī)械攪拌轉(zhuǎn)速設(shè)置范圍： 100-1500rpm精度正負(fù) 0.1rpm

機(jī)械攪拌定時(shí)范圍： 1 秒-9999 時(shí)

機(jī)械攪拌只帶熱電偶可以隨意測(cè)量溫度 500 度內(nèi)

機(jī)械攪拌帶一鍵鎖功能 首次，鎖屏后無(wú)法調(diào)整參數(shù)

機(jī)械攪拌器設(shè)計(jì) ：可配置低于 7mm直徑的攪拌棒 ，攪拌棒可穿桿安裝 效高化，配合四氟 攪拌塞可實(shí)現(xiàn)抽真空 生產效率，充氣體狀態(tài)下攪拌

溫度設(shè)定及表示：液晶屏顯示 ，旋鈕調(diào)溫。

攪拌設(shè)定及表示：通過(guò)旋鈕設(shè)定和液晶屏顯示狀態(tài)獨(dú)立控制平行合成反應(yīng)儀